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产品中心
  • 应用范围:GPH-DHDO通过1/4英寸不锈钢管和两个阀连接两个气体净化器(一个用于脱氧,另一个用于脱湿),可以安装到任何MTI气体混合系统。 它在室温操作下将气态杂质减少到亚ppm级。 它从任何99.9%纯度的惰性气体(氮气,氩气,氦气,氪气,氖气和氙气)和氢气中的H2O,O2和CO2中去除H2O,O2,CO,CO2,H2和NMCH至<0.1ppm。 更重要的是,它具有可以加热到300℃的加热加热器,以便在设备中容易地再生脱氧和脱水化学品,以便长期使用。 产品型号 :GPH-DHDO 安装尺寸:445*400*190mm
  • QL-500是一款紧凑,重量轻,节省成本效益,能源节约型的先进的氢气发生器。它可以在不加任何碱性物质的情况下通过电解纯净水产生超高纯度的氢气。它可以连续地产生高纯度的氢气,速率可达到500 ml/min,并有数字显示计显示流量,调节阀调节流量,超压安全保护装置。这款氢气发生器是材料研究,热处理,气相色谱分析中用来产生氢气的理想设备。
  • LVD-F1是一款专门针对实验室中CVD实验中导入液体的一套系统,其液体流量是通过一数字液体泵来控制,*大流量为10ml/min。液体被蠕动泵导入到混气系统后,被系统里的加热装置加热成蒸汽,然后随导入的气体被带入到炉管中。LVD-F1能够导出多种液体,比如ETOH, SnCl4, TiCl4r, SiHCl3, 和Zn(C2H5)2,还有多种有机物混合。对于研究用CVD方法生长纳米线和薄膜LVD-F1是一款优良的研究设备。
  • GSL-4Z是一款多路质量流量计控制系统,其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里,移动柜*大可以承重1000Lbs,所以在与本公司大多数管式炉配套使用时,可将管式炉置于移动柜上以节约空间。各通道气路的流量设定和状态显示都集中在一6"的触摸屏上,同时可以实时查看气体流量曲线和数据。此款设备广泛的用于材料界中CVD实验和各种材料的退火实验。
  • GSL-4Z可以用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉,这种气体控制系统安装在移动架上,管式炉可以放在GSL-4Z的上面,气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀。结合科晶集团的管式炉,它可以用于CVD系统及退火炉,用来研究气体环境对材料的影响。
  • GSL-3Z可以用于控制一种到三种的气体流经真空密封的管式炉,这种气体控制系统安装在移动架上,管式炉可以放在GSL-4Z的上面,气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀。结合科晶集团的管式炉,它可以用于CVD系统及退火炉,用来研究气体环境对材料的影响。
  • GSL-3F-PTFE是一款三通道防腐蚀型混气系统,气体通过的所有部分全部都是由聚四氟乙烯材料制作(阀、管道、混气罐和浮子流量计),此款设备设计专门针对于需要通入腐蚀性气体(如H2S、H2Se)的CVD实验。
  • GSL-2Z可以用于控制一种或两种的气体流经真空密封的管式炉,这种气体控制系统安装在移动架上,管式炉可以放在GSL-2Z的上面,气体控制系统的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀。结合科晶集团的管式炉,它可以用于CVD系统及退火炉,用来研究气体环境对材料的影响。
  • 这种气路控制系统适用于控制一种到三种气体的通入,管式炉可以放在它上面,结合科晶集团的管式炉,它可以用于CVD系统及退火炉,用来研究气体环境对材料的影响。
  • EQ-DFN-500是一种小型高纯度气体发生器,它产生气体的速率可以达到500 ml/min,并且气体的纯度>99.999%,它是化学和材料实验室的理想设备。
  • 气液混合罐BL-200特别适用于在CVD实验中将液相蒸汽带入到反应腔中。此混合罐的主体采用316不锈钢制作,罐体上部安装有进气出气口和一个机械压力表,两个不锈钢截止阀分别安装在进气和出气口上,两接头都采用Φ6.35卡套接头,使得罐内可承受气压可以承受到0.15Mpa(在正压环境下液体蒸汽量提高),同时罐体可承受温度可以达到250℃。
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